一．设备简介

半导体 超纯水设备 是应用 于半导体 生产 零件 清洗 的超纯水设备 ，需要 符合 特定 的用水 水质标准 ,半导体 超纯水设备 出水 水质 要符合 美国 ASTM 纯水 水质标准 、中国电子 工业电子级水质 技术标准 (18 MΩ.cm 、15 MΩ.cm 、10 MΩ.cm 、2MΩ.cm 、0. 5M Ω.cm )、半导体 工业用 纯水 指标 、集成电路 水质标准 。 

宏洁 水务 在满足用户 用水 标准 的基础 上，在设备 系统 中水箱均设有 液位 控制系统 、水泵 均设有 压力 保护装置 、在线 水质检测 控制仪表、电气 采用 PLC可编程控制器，真正 做到 了无人 职守 ，同时 在工艺 选材 上采用 推荐 和客户 要求 的方法 ，使设备 与其它 同类产品 相比较 ，具有 更高 的性价比 和设备 可靠性 。

二．设计标准 及依据

1.根据 用户 提供 的详细 水质 报告 “量身定制 ”。

2.水处理设备 技术 条件 《JB /T29 32 -1999 》

3.反渗透 水处理设备 标准 《CJ /T1 19 -2000 》

4. 低压开关 设备 和控制设备 成套 装置 《IEC 439-1》

5. 实验室 超纯水 技术指标 标准 《GB6 682 -2008 》

6.电子 级超纯水 规格 《GB /T1 1446.1-1997 》

三．工艺流程

1、原水 －原水 加压泵 －多介质 过滤器 －活性炭过滤 器－软水器 －精密过滤器 －级反渗透－PH 调节 －中间 水箱 －级反渗透 －纯化 水箱 －纯水泵 －EDI系统 －超纯水 箱－纯水泵 －抛光 装置 －终端 超滤 －用水 点

四．设计 特点

1.系统 采用 全自动 控制 (同时 亦可 采用 手动 控制 ），系统 运行 时可设定 自动 反洗 、再生 程序 ；

2.各单元 接线 均在工厂 内完成 ，减少 安装 调试 时间 ；

3.一级 反渗透 和二级 反渗透 设有 回流 管道 ，反渗透设备 设有 化学清洗 装置 ；

4. 管道 一般 采用 UPVC 材质 ；

5. 集成 控制系统 和集成 仪表 系统 等，方便 操作 管理 ；

6.RO膜定时 清洗 具有 开机 和定时 清洗 RO