东莞市研尔化工科技有限公司

半导体集成电路蚀刻,电路板SMT清洗剂,网纹辊清洗剂,解胶,光亮研磨

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引线框架分立器件清洗剂 分立器件和引线框架及基材焊接后清洗剂
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产品品牌: 研尔
地址: 东莞市松山湖集成电路创新中心B栋320

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主营产品:半导体集成电路蚀刻,电路板SMT清洗剂,网纹辊清洗剂,解胶,光亮研磨

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  • 产品名称 清洗剂
  • 是否进口
  • 储存要求 阴凉处,通风良好
  • 销售类型 厂家直销
  • 香型 无刺激性味道
  • 产地 东莞

引线框架分立器件清洗剂CH670

产品简介

CH670是针对分立器件和引线框架及基材焊接后的一款清洗剂,能很好清除焊接后的高温含铅锡膏残留,并且对框架材料和硅片钝化层没有破坏。可保证后续工艺高质量完成。

产品特性

1. 产品清洗能力强,清除各种污染物及残留物。

2. PH弱碱性,特别适用于较长接触时间的清洗,材料兼容性好,对产品本身无腐蚀破坏。

3. 采用去离子水,无闪点,使用安全。

4. 气味淡,对工作环境无影响,操作人员易接受

5. 清洗负载能力高,可过滤性好,具有超长的使用寿命

6. 不含VOC成分,能满足VOC排放的法规要求

应用范围

CH670应用在超声波清洗工艺和喷淋清洗工艺中,适用于各种引线框架、分立器件焊接后的清洗

理化参数

水基清洗剂CH670


外观

无色透明液体


密度(25g/cm3

1.00±0.05


PH(10g/l H2O)

9.0-110


沸程()

100-255


闪点()


清洗温度(/)

40-55


卤素wt/wt

0


水溶性

可溶





使用说明

下面分别介绍CH670在以上两种清洗工艺中的具体应用。

一.超声波清洗工艺

在超声波清洗工艺中,将待清洗件浸没在清洗槽中,利用超声波在清洗剂中的空化作用、加速度作用及直进流作用,和清洗剂对污垢的溶解性相结合,使污垢层被溶解、分散、乳化,或剥离而达到清洗目的。工艺原理图(图1-图3可见)

1. 工艺流程

超声波清洗  —→        超声波漂洗 —→         干燥—→     完成    

(CH670,单槽或多槽)      (去离子水, 槽或多槽)

2.工艺应用参数

项目

超声波清洗

超声波漂洗

干燥

介质

CH670

去离子水

热风烘干

温度

45-55

45-55

100-120

时间

15-20min

15-25min

20min

.喷淋清洗工艺

喷淋工艺的循环清洗系统更能发挥其易过滤、清洗寿命长及不易起泡等优势。喷淋清洗工艺适用于大批量清洗,在线完成化学清洗、漂洗、烘干全部工序。喷淋清洗主要是采用中、高压喷淋泵对清洗液增压,将低流的清洗液转换为高速束流冲擦清洗表面,从而达到清洗的目的.

1.工艺流程

加液→上料(接驳来料装置)→喷淋清洗→喷淋漂洗→干燥→下料

2.工艺应用参数项目 

 

喷淋清洗 

 

喷淋漂洗 

 

干燥 

一段

二段

介质 

CH670

去离子水 

热风烘干 

温度 

45-55

45-55

100-120

时间 

8-10min

8-10min

20min

环境、健康及安全法规

CH670是一款弱碱性水基清洗剂,可生物降解;

配方中不含卤素及VOC成分;

安全,无闪点,不燃烧;

参考MSDS具体的防范和处理指令。

产品包装

包装:塑料桶,20KG/桶。

储存:室温密封储存并避免阳光直射和高温环境,温度一般在0-30℃。

保质期:一年(密封),生产日期详见包装。

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