半导体集成电路蚀刻,电路板SMT清洗剂,网纹辊清洗剂,解胶,光亮研磨
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引线框架分立器件清洗剂CH670
产品简介
CH670是针对分立器件和引线框架及基材焊接后的一款清洗剂,能很好清除焊接后的高温含铅锡膏残留,并且对框架材料和硅片钝化层没有破坏。可保证后续工艺高质量完成。
产品特性
1. 产品清洗能力强,清除各种污染物及残留物。
2. PH弱碱性,特别适用于较长接触时间的清洗,材料兼容性好,对产品本身无腐蚀破坏。
3. 采用去离子水,无闪点,使用安全。
4. 气味清淡,对工作环境无影响,操作人员易接受
5. 清洗负载能力高,可过滤性好,具有超长的使用寿命
6. 不含VOC成分,能满足VOC排放的法规要求
应用范围
CH670应用在超声波清洗工艺和喷淋清洗工艺中,适用于各种引线框架、分立器件焊接后的清洗 | ||
理化参数 | 水基清洗剂CH670 | |
外观 | 无色透明液体 | |
密度(25℃)g/cm3 | 1.00±0.05 | |
PH值(10g/l H2O) | 9.0-11.0 | |
沸程(℃) | 100-255 | |
闪点(℃) | 无 | |
清洗温度(℃/℉) | 40-55 | |
卤素wt/wt | 0 | |
水溶性 | 可溶 | |
使用说明
下面分别介绍CH670在以上两种清洗工艺中的具体应用。
一.超声波清洗工艺
在超声波清洗工艺中,将待清洗件浸没在清洗槽中,利用超声波在清洗剂中的空化作用、加速度作用及直进流作用,和清洗剂对污垢的溶解性相结合,使污垢层被溶解、分散、乳化,或剥离而达到清洗目的。工艺原理图(图1-图3可见)
1. 工艺流程
超声波清洗 —→ 超声波漂洗 —→ 干燥—→ 完成
(CH670,单槽或多槽) (去离子水, 单槽或多槽)
2.工艺应用参数
项目 | 超声波清洗 | 超声波漂洗 | 干燥 |
介质 | CH670 | 去离子水 | 热风烘干 |
温度 | 45-55℃ | 45-55℃ | 100-120℃ |
时间 | 15-20min | 15-25min | >20min |
二.喷淋清洗工艺
喷淋工艺的循环清洗系统更能发挥其易过滤、清洗寿命长及不易起泡等优势。喷淋清洗工艺适用于大批量清洗,在线完成化学清洗、漂洗、烘干全部工序。喷淋清洗主要是采用中、高压喷淋泵对清洗液增压,将低流的清洗液转换为高速束流冲擦清洗表面,从而达到清洗的目的.
1.工艺流程
加液→上料(接驳来料装置)→喷淋清洗→喷淋漂洗→干燥→下料
2.工艺应用参数项目 |
喷淋清洗 |
喷淋漂洗 |
干燥 |
一段 | 二段 | ||
介质 | CH670 | 去离子水 | 热风烘干 |
温度 | 45-55℃ | 45-55℃ | 100-120℃ |
时间 | 8-10min | 8-10min | >20min |
环境、健康及安全法规
CH670是一款弱碱性水基清洗剂,可生物降解;
配方中不含卤素及VOC成分;
安全,无闪点,不燃烧;
参考MSDS具体的防范和处理指令。
产品包装
包装:塑料桶,20KG/桶。
储存:室温密封储存并避免阳光直射和高温环境,温度一般在0-30℃。
保质期:一年(密封),生产日期详见包装。
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