一、真空悬浮熔炼炉设备用途：

1·主要用来制取高熔点、高纯度和极活泼的金属如稀土金属和合金Ti及其合金，铀土、碱土金属和合金

2·高纯金属材料、半导体单晶材料如高纯靶材、镀膜材料，太阳能级多品硅、高纯金属

3·高精度成分合金及化合物制备。如金属间化合物、微合金化材料，含弥散相材料等

4·高熔点难熔金属及合金制备。如Cr、ZrVHfNbMoTa等难金属和合金，Pt、Rh、Ir等贵金属和合金。

5·科研合金制备。对材料纯度、成分精度和均匀性要求高，期望排除杂质和其它元素干扰。

二、真空悬浮熔炼炉设备原理

真空磁悬浮熔炼方法，是通过高频或中频交变磁场，在金属熔炼中形成与重力相抵消的电磁力，使熔体悬浮，与坩埚内壁脱离方法是一项集电磁学、流体学、热力学、力学、物理化学及冶金等多学科于一体的综合冶金技术。因此受到了人们广泛的观注，在许多材料制备领域得到应用。由于磁悬浮的作用，使熔体与坩埚内壁脱离接触，这样熔体与坩埚壁之间的散热行为由传导散热改为辐射散热，从而导致散热速度聚减，使熔体可达到很高的温度（1700～2500℃），宜于熔炼高熔点金属或其合金。更重要的方面是：熔炼时炉料的悬浮将有效防止炉料与坩埚壁接触所带来的污染。宜于获得高纯度或极活泼的金属。

三设备优点：

(1)无坩埚污染，合金纯净;

(2)电磁搅拌烧损较小，成分均匀准确

(3)熔炼温度高，可超过3000℃;

(4)适合活泼金属熔炼。

四、主要技术参数

1、设备总功率：≤10~150Kw 可以根据需要容量配置

2、悬浮电源功率：≤10-150Kw IGBT悬浮电源 可定制

3、容量：水冷铜坩埚，10g- 3000g（以钢液7.8克/立方厘米计算）

4、输入电源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

5、冷态极限真空度： 5pa    5.0×10E-3Pa    5.0×10E-4Pa

6、熔炼温度≤2100℃（根据材料熔点不同熔炼温度不同）

7、水冷铜坩埚≤10g- 3000g 熔炼温度低于2100度的金属合金（根据熔炼材料定） 可定制

8、可充保护气≤0.03Mpa

9、控制方式：触摸屏+PLC,配置手动操作按钮

10、操作模式：主要阀门气动、电动