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小型PECVD系统
型号：PE1260S
用途：小样品的等离子化学气相沉积，石墨烯沉积，半导体镀膜等
规格：1500*600*1000MM
特点：触摸屏集中一键控制，实验证明此结构沉积速度快，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂
该型号PECVD为整体精简款，综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点，触摸屏集中一键控制，实验证明此结构沉积速度快，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂。而且控制部分采用了自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统，使得操作更加简便，功能更加强大。
主要特点：
1. 管内真空度自动平衡——管内真空度实时监测，自动平衡。PECVD工艺要求石英管内真空度通常在0.1～100Pa之间，该型号PECVD的AIO控制系统会通过真空泵的自动启停来维持用户设定的管内真空度，使成膜效果达较佳的均匀性。
2. AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控，协调控制——成仪AIO控制系统；
3. 射频功率的定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间，自动运行；
4. 炉膛移动速度可调——根据实验要求，用户可设定炉膛左右移动的速度可距离，在沉积结束后炉膛可自动移开沉积区，使样品快速冷却；
5. 整机结构融为一体——整机长度只有1.5米，移动方便，避免分散组装的困扰。
产品参数：
| 加热炉部分： | |
| 炉膛模式： | 开启式可移动炉膛 |
| 显示模式： | 7英寸触摸屏 |
| 极限温度： | 1200℃ |
| 工作温度： | ≤1150℃ |
| 升温速率： | 建议10℃/Min Max：30℃/Min |
| 炉体移动： | 有，速度可调 |
| 单温区长度： | 主温区长度：200mm（可选配气体预热部分） |
| 炉管规格： | 60*1150 mm |
| 控温精度： | ±1℃ |
| 密封方式： | 快速法兰密封 |
| 温度曲线： | 30段"时间—温度曲线"任意可设 |
| 预存曲线： | 可预存15条温度曲线 |
| 超温报警： | 有 |
| 过流保护： | 有 |
| 断偶提示： | 有 |
| 测温元件： | K型热电偶 |
| 炉膛材料： | 氧化铝纤维 |
| 外形尺寸： | 1500*600*1000MM |
| 信号频率： | 13.56 MHz±0.005% |
| 功率输出范围： | 5W-300W |
| 功率稳定度： | ±0.1% |
| 整机效率： | >=70% |
| 功率因素： | >=90% |
| 冷却方式： | 强制风冷 |
| 真空部分： | |
| 功率： | 500W |
| 抽气速率： | 2Ls |
| 极限真空： | 4X10-2Pa |
| 气路系统： | |
| 1～3路质量流量计可选（七星华创）： | |
| 准确度：±1.5%： | |
| 重复精度：±0.2%： | |
| 工作压差范围：0.1～0.5 MPa： | |
| 整机系统特色： | |
| 正压测量： | -100Kpa---100Kpa |
| 真空测量： | 10-2Pa ～100Kpa（支持Ar测量） |
| 正压保护： | 支持 |
| 压力恒定： | 支持 |
| 智能气路： | 支持 |
| 气路定时： | 支持 |
| 射频工作时间设定： | 支持 |
| 移动速度调节： | 支持 |
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